Мировой годовой спрос всего около ста тонн: почему гафний становится «золотым малым металлом» эпохи искусственного интеллекта?
Гафний раньше считался нишевым металлом в ядерной промышленности и цепочке производства авиационных двигателей, но с непрерывным развитием передовых логических чипов, DRAM, HBM и новых технологий хранения, этот сопутствующий металл, мировой годовой спрос на который всего около сотни тонн, превращается из традиционного высокотемпературного материала в ключевой элемент полупроводникового производства. В последнее время наибольшее внимание рынка привлек быстрый рост цен на гафний за рубежом, однако трактовать этот цикл только как «дефицит мелких металлов» — не совсем правильно, ведь металл гафний — лишь отправная точка цепочки поставок, а реальный долгосрочный потенциал роста определяется способностью очищать его до электронной чистоты (электронный оксид гафния) и далее перерабатывать в прекурсоры гафния, пригодные для применения в оборудовании атомно-слоевого осаждения (ALD) в фабриках по производству пластин.
I. Что произошло? — Взлет цен на гафний, почему оксид гафния становится важнейшим материалом для современных чипов?
1. Оксид гафния — одно и то же название, но разная ценность:
Химическая формула оксида гафния — HfO₂, обычно это белый порошок, характеризующийся высокой температурой плавления, хорошей химической стабильностью, стойкостью к коррозии и отличной изоляцией. По степени чистоты и областям применения оксид гафния можно условно разделить на три типа.
Первый тип — промышленный оксид гафния, применяемый, в основном, в огнеупорных материалах, керамике, оптических покрытиях и других областях, к примесям и размеру частиц предъявляются относительно невысокие требования, продукт ближе к обычным химическим материалам; второй тип — высокочистый оксид гафния уровня 4N, 5N, где 4N означает чистоту 99,99%, для таких продуктов крайне строго контролируются примеси (цирконий, железо, натрий, кальций, хлор и др.), используется для электронных материалов, полупроводниковых прекурсоров и высококлассных мишеней; третий тип — ALD-прекурсоры гафния, такие как TEMAH, TDMAH и CpHf, синтезируемые из высокочистых гафниевых соединений, — именно они фактически применяются для создания оксид-гафниевых пленок на фабриках по производству пластин.
Эти три этапа связаны с гафнием, однако бизнес-модели у них различаются. Для обычного оксида гафния важнее себестоимость и масштаб, для оксида гафния электронной чистоты — технологии очистки и стабильность производства, а ALD-прекурсоры гафния должны не только соответствовать нескольким требованиям к ультра-высокой чистоте, но и быть летучими, термически стабильными, химически активными и однородными между партиями, а также пройти долгосрочную сертификацию у фабрик по производству пластин. Чем ближе продукт к процессу производства чипа, тем меньше его ценность определяется содержанием гафния, и тем больше — способностью материала надежно формировать качественную пленку.
2. Оксид гафния решает проблему утечек тока при миниатюризации транзистора:
Транзистор можно рассматривать как огромное количество миниатюрных электронных выключателей внутри чипа: затвор — это заслонка, управляющая выключателем, между затвором и каналом, по которому проходят электроны, нужна очень тонкая изолирующая прослойка. Ранее чаще всего использовался диоксид кремния, но по мере уменьшения размеров технологических процессов с десятков нанометров до нескольких нанометров слой диоксида кремния становится всё тоньше, и при толщине в несколько атомов электроны могут напрямую прорываться сквозь изоляцию, вызывая утечки тока, нагрев и рост энергопотребления.
Значимость оксида гафния заключается в том, что его диэлектрическая проницаемость составляет, как правило, 18–25, что намного выше, чем у диоксида кремния (3,9). Таким образом, для достижения той же степени управления затвором, слой оксида гафния можно сделать физически толще, сократив вероятность прорыва электронов через изолятор. Проще говоря, диоксид кремния — как всё более тонкая дверь: когда она становится слишком тонкой, электроны могут «пройти сквозь дверь»; оксид гафния позволяет сделать эту дверь толще, не теряя управляемости процессом выключения.
……
Дисклеймер: содержание этой статьи отражает исключительно мнение автора и не представляет платформу в каком-либо качестве. Данная статья не должна являться ориентиром при принятии инвестиционных решений.
Вам также может понравиться
Ночная торговля на фондовом рынке США | США в июне сократили вложения в американские гособлигации: Китай, Япония и Великобритания также снизили свои вложения. Основные три индекса закрылись снижением, акции SanDisk (SNDK.US) выросли почти на 9%.
По итогам торгов индекс Dow Jones снизился на 272,39 пункта, или на 0,51%, до 53 460,02 пункта; индекс S&P 500 упал на 40,39 пункта, или на 0,52%, до 7 745,37 пункта; индекс Nasdaq Composite снизился на 84,25 пункта, или на 0,32%, до 26 644,91 пункта.

Доходность 30-летних казначейских облигаций США достигла максимума с 2007 года, выпуск инвестиционных облигаций в США в августе достиг рекордного уровня для этого периода.
В по недельник доходность 30-летних государственных облигаций США на время превысила 5,31%. Компании в условиях бума искусственного интеллекта активно размещают крупные выпуски облигаций, что усугубляет дисбаланс спроса и предложения на рынке долгосрочных бумаг. В августе объем выпуска инвестиционных облигаций в США достиг 145,2 млрд долларов, превысив рекорд августа 2020 года в 136 млрд долларов. Одновременно ежегодный бюджетный дефицит правительства США, близкий к 2 трлн долларов, продолжает увеличивать предложение государственных облигаций.

Выгоднее ли SanDisk, чем DRAM, и действительно ли он так хорош?

