阿斯麥表示12英寸光掩模有望提升晶圓廠效率並降低成本
智通财经2026/09/08 06:26顯示原文
阿斯麦(ASML.US)：過渡到更大尺寸的12英吋光掩膜預計將進一步提高晶圓廠生產效率，降低晶片製造成本，並消除拼接限制。
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