ASML і Samsung розширюють партнерство у сфері високої NA EUV технології

03:33 AM EDT, 09/08/2026 (MT Newswires) -- ASML (ASML) та Samsung Electronics у вівторок заявили, що розширять своє партнерство з метою розвитку технології High NA EUV літографії та виробництва напівпровідників для чипів наступного покоління. Компанія повідомила, що Samsung приєднається до галузевої ініціативи з розробки фотошаблонів діаметром 12 дюймів для систем High NA EUV, що може підвищити ефективність виробництва чипів і зменшити витрати порівняно з поточним форматом у 6 дюймів. Також повідомляється, що Samsung планує використовувати технологію High NA EUV від ASML для масового виробництва DRAM до 2028 року.