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ASMLの2024年第2四半期業績は全面的に予想を上回り、通期見通しを再度上方修正、2027年にはLow NA EUVの生産能力が30%増加|決算ニュース

ASMLの2024年第2四半期業績は全面的に予想を上回り、通期見通しを再度上方修正、2027年にはLow NA EUVの生産能力が30%増加|決算ニュース

华尔街见闻华尔街见闻2026/07/16 13:31
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著者:华尔街见闻

ASMLは2026年通期の純売上高予想を430億~450億ユーロに上方修正し、以前の360億~400億ユーロの範囲から大幅に引き上げました。ASMLによると、Intelは米国オレゴン州の工場でHigh NA EUV装置を一部のUltra 3プロセッサの量産製造に正式に導入しました。ASMLの欧州株は7%上昇しました。

AIチップの需要が引き続き強く、注文が急増していることから、半導体リソグラフィ装置の大手企業ASMLは四半期決算で力強い業績を示し、複数の主要指標が市場予想を上回り、年間業績見通しも上方修正しました。

ASMLの第2四半期純売上高は93億3000万ユーロで、アナリストの平均予想である88億5000万ユーロを上回りました。純利益も29億2000万ユーロとなり、市場予想の26億4000万ユーロを超えました。粗利益率は54%で、これも予想の52%を上回る内容でした。

力強い業績動向を受けて、ASMLは2026年通期の純売上高見通しレンジを従来の360〜400億ユーロから大幅に引き上げ、430〜450億ユーロとし、粗利益率のガイダンスも51〜53%から54〜56%へ引き上げました。同社は第3四半期の純売上高を110〜120億ユーロと見込んでおり、中間値はBloombergのアナリスト予想(102億7000万ユーロ)を大きく上回ります。粗利益率ガイダンスは55〜57%の範囲です。

同社は、2026年の約65台分のLow NA EUV装置の生産能力に基づき、2027年には約30%増強、2028年にはさらに30%増強することを検討していると述べました。一方でASMLは、Intelが米国オレゴン州工場でHigh NA EUV装置を使ってUltra 3(Lunar Lake)プロセッサーの一部量産製造を正式に開始したと明らかにしました。

ASMLの2024年第2四半期業績は全面的に予想を上回り、通期見通しを再度上方修正、2027年にはLow NA EUVの生産能力が30%増加|決算ニュース image 0

業績が全面的に市場予想を上回り、第3四半期ガイダンスも再度予想超え

ASMLの第2四半期決算は、複数の主要指標で市場予想を上回りました。純売上高は93億3000万ユーロで予想を約5.4%上回り、サービスおよび現地運用の売上高も27億6000万ユーロと、予想の24億9000万ユーロを上回りました。粗利益率は54%で予想を2ポイント上回り、純利益は29億2000万ユーロで予想を約10.6%超過しています。

第3四半期ガイダンスについては、純売上高を110〜120億ユーロと見込んでおり、市場予想の102億7000万ユーロを大きく超えています。粗利益率は55〜57%を見込んでいます。

通期見通しについては、ASMLは純売上高の上限を400億ユーロから450億ユーロへ、レンジの下限も360億ユーロから430億ユーロへ大幅に引き上げました。この大きな修正は業界で広く注目を集めています。ASML CEOのChristophe Fouquet氏は決算発表で「現在のビジネスの勢いを踏まえ、2026年のLow NA EUVの生産能力約65台分を基盤に、2027年には30%の能力増強、さらに2028年に追加で30%の増強を計画しています。」と述べました。同社はまた、次回のキャピタルマーケットデイを2027年6月10日に開催し、市場動向や技術動向を反映した長期的な見通しを更新する予定です。

AIインフラ投資ラッシュが主要な原動力

ASMLは既に第1四半期にも年間ガイダンスを上方修正しており、その背景には顧客がAIチップの生産能力を引き続き拡大していることがあります。ASMLのEUVリソグラフィ機器は、世界で唯一最先端のAIチップ製造に対応した露光工程を実行できる装置であり、類を見ないコア競争力となっています。

ASMLの最大顧客の一つであるTSMC(台湾セミコンダクター・マニュファクチャリング)は今週初めに公表したデータでも、この需要の高まりを裏付けており、TSMCの6月売上高は前年同月比68%増となっています。強いチップ需要が背景となっています。ロイター通信によれば、TSMCは台湾南部の嘉義サイエンスパークに先進パッケージ工場を2棟新設する計画もあるとされています。

UBSのアナリストは7月10日のレポートで、半導体ファブのキャパシティ構築とAI主導の先端プロセスチップ需要が、ASMLの下半期業績をさらに押し上げると指摘しました。

IntelがHigh NA EUVを採用、主要装置の商業化が重要な一歩に

ASMLとIntelの共同声明によれば、Intelはオレゴン州工場でASMLのEXE High NA EUV装置を使い、Ultra 3(Lunar Lake)ノートPC用プロセッサの一部製造に利用しています。具体的には、特定の製造層で本装置を用いてデータを蓄積し、パフォーマンス最適化を進めています。Intelは18Aプロセスにおいて、従来型EUVとHigh NA EUVの両装置を併用しています。

High NA EUV装置の1台当たり価格は約4億ドルで、従来型EUVの約2倍です。また技術導入も非常に高度です。Intelは2024年にHillsboro開発拠点で世界初のHigh NA装置を受け取り、量産版に近いモデルをいち早く導入しており、今回の量産適用はそれに続く正式な進展となります。

Intelのチップ製造部門を率いるエグゼクティブ・バイスプレジデント兼ジェネラルマネージャーNaga Chandrasekaran氏は「このマイルストーンはIntelとASMLの緊密な技術協業の象徴であり、High NA EUVが先端半導体製造における大規模インテグレーションを実現することを示したものです。」と述べました。

TSMCは以前より、最新世代のASML機器がコスト高のため大規模量産には適用できないことから、技術移行の時期を遅らせると表明していました。今回のIntelの導入は、High NA EUVの商業化展望への市場の懸念を一定程度和らげ、ASMLにとってこの製品ラインの拡販に好影響を与えます。

生産能力増強の道筋を2028年まで明確に

旺盛な需要により、ASMLは生産能力の拡大計画を加速させています。同社は2026年の約65台Low NA EUV装置の製造能力をもとに、2027年には約30%の増産、さらに2028年に30%の追加増産を検討していると述べました。

このキャパシティ拡大策は、ASMLが半導体装置への需要が今後も続くと楽観視し、今後数年で技術進化サイクルがさらに加速する可能性も踏まえて供給余力を確保していることを示しています。

決算発表後、ASMLの欧州株は7%上昇となりました。

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