CRVが652日ぶりに再び1.20ドルを突破、24時間で40%以上上昇

AIによる算力需要の急増により、磷化铟（InP）基板およびエピタキシャルウェハの深刻な需要過剰が生じており、第4四半期の価格上昇率は10％を超え、過去最大の単回上昇幅となる見込みで、すでに複数回連続して値上げが行われています。上流の基板生産能力のボトルネックは短期間で解決できず、供給と需要のバランスが短期的に改善することは困難です。サプライヤーは、値上げを受け入れても、必ずしも商品が手に入るわけではないと率直に述べています。