ASML berencana mengembangkan solusi baru untuk memproduksi peralatan manufaktur chip canggih dengan area yang lebih besar.

ASML menyatakan bahwa mereka berencana bekerja sama dengan klien utama untuk mengembangkan solusi baru yang mampu memproduksi peralatan manufaktur chip paling canggih, guna memenuhi permintaan chip pusat data berukuran besar yang dirancang oleh perusahaan seperti Nvidia. Saat ini, mesin litografi EUV yang diproduksi ASML secara luas digunakan dan dapat membuat chip dengan ukuran maksimum sekitar 800 milimeter persegi. Mesin litografi EUV "aperture numerik tinggi" generasi berikutnya dari ASML akan mampu memproduksi chip yang lebih presisi. Namun, karena menggunakan pelat masker berukuran lebih kecil, saat ini terdapat keterbatasan pada area chip yang dapat diproduksi. ASML berencana untuk mendemonstrasikan lini produksi percobaan yang menggunakan pelat masker berukuran lebih besar pada tahun 2031, dan menjadikan teknologi baru ini memiliki kemampuan produksi massal pada tahun 2033.