ASML planea lograr la producción en masa de su nueva generación de tecnología de litografía para grandes chips en 2033.

ASML ha anunciado que planea colaborar con sus principales clientes para desarrollar nuevas soluciones capaces de producir los equipos de fabricación de chips más avanzados, con el fin de satisfacer la demanda de grandes chips para centros de datos diseñados por empresas como NVIDIA. Actualmente, la máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV) de ASML, ampliamente utilizada, puede fabricar chips de hasta aproximadamente 800 milímetros cuadrados. Su próxima generación de máquinas EUV de “alta apertura numérica” podrá producir chips aún más precisos. Sin embargo, debido a que utiliza máscaras de menor tamaño, actualmente existen limitaciones respecto a la superficie máxima de los chips que pueden fabricar. ASML planea demostrar una línea piloto utilizando máscaras de mayor dimensión para 2031 y, en 2033, implementar esta nueva tecnología en producción a gran escala.